在微弧氧化的过程中，电源的放电波形及其相关的参数对试验的影响也比较大，例如：电压、占空比、电流密度的大小，频率的高低以及交流或直流的不同都对试验后的膜层性能有影响，而且这些参数还对试验过程中的能耗大小有一定的影响。
一般来说，电压越高，微弧氧化后的膜层厚度越大，但同时膜层的光滑性和致密性却有所降低；如果施加过低的电压，则氧化膜会很难生成，或者生成的膜层根本无法在工业中得到应用，所以选择合适的电压对膜层的性能很重要，同时它也是影响能耗的最大因素。
在相同的微弧氧化时间内，占空比的增加，导致电流密度的增加，陶瓷膜的厚度和致密层的显微硬度也显著的增加，但是这种增加不是简单的线性关系，氧化膜中致密层的厚度所占的比率是逐渐下降的，致密层增长明显趋于平缓，疏松层的增长速度在加快。随着脉冲频率的增加，膜层厚度下降很快，几乎呈直线下降。致密层的硬度迅速下降。但是随着脉冲频率的增加，致密层所占比率却逐渐升高。
通常情况下，采用直流电源进行微弧氧化试验，膜层厚度要大于采用交流电源的试验，但膜层表面却相对比较粗糙，若采用具有“针尖"效果的脉冲直流，可有效地降低粗糙度。
