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工艺条件对微弧氧化陶瓷层性能的影响

发布时间:2021-03-22浏览次数:935

在进行微弧氧化试验前,要对试样进行除油处理,之后再进行去离子水清洗,这样可以清除掉膜层表面的污物,有利于提高氧化膜层的光滑性和致密性。而且试验过程中必须有一个良好的冷却系统以保证微弧氧化顺利进行。电解液的组成温度不仅对陶瓷的生长工艺有影响,也影响陶瓷层的性能,温度过高时,镀液易出现飞溅,膜层也易局部烧焦或击穿,氧化后的膜层会变得比较粗糙。

随着氧化时间的增加,膜层经历了先外后内的生长过程,同时膜层逐渐的趋于均匀致密,致密层逐渐增厚,厚度增大,硬度也增大;但如果氧化时间过长,则膜层表面会变得非常粗糙,厚度增加缓慢或不再增加。通过试验得出30"'60min为功能性陶瓷薄膜的最佳氧化时间。


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